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WEP CVP21電化學(xué)C-V剖面濃度測量?jì)x

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產(chǎn)品名稱(chēng):
WEP CVP21電化學(xué)C-V剖面濃度測量?jì)x

產(chǎn)品概要: 德國WEP公司的CVP21電化學(xué)C-V剖面濃度測試儀可高效、準確的測量半導體材料(結構,層)中的摻雜濃度分布。選用合適的電解液與材料接觸、腐蝕,從而得到材料的摻雜濃度分布。電容值電壓掃描和腐蝕過(guò)程由軟件全自動(dòng)控制。 電化學(xué)ECV剖面濃度測試儀主要用于半導體材料的研究及開(kāi)發(fā),其原理是使用電化學(xué)電容-電壓法來(lái)測量半導體材料的摻雜濃度分布。電化學(xué)ECV(CV-Profiler, C-V Profiler)也是分析或發(fā)展半導體光-電化學(xué)濕法蝕刻(PEC Etching)很好的選擇。CVP21電化學(xué)C-V剖面濃度測量?jì)x適用于評估和控制在半導體生產(chǎn)中的外延過(guò)程并且以被使用在多種不同的材料上,例如:硅、鍺、III-V族化合物半導體(如GaN)。
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德國WEP公司的CVP21電化學(xué)C-V剖面濃度測試儀可高效、準確的測量半導體材料(結構,層)中的摻雜濃度分布。選用合適的電解液與材料接觸、腐蝕,從而得到材料的摻雜濃度分布。電容值電壓掃描和腐蝕過(guò)程由軟件全自動(dòng)控制。
電化學(xué)ECV剖面濃度測試儀主要用于半導體材料的研究及開(kāi)發(fā),其原理是使用電化學(xué)電容-電壓法來(lái)測量半導體材料的摻雜濃度分布。電化學(xué)ECV(CV-Profiler, C-V Profiler)也是分析或發(fā)展半導體光-電化學(xué)濕法蝕刻(PEC Etching)很好的選擇。CVP21電化學(xué)C-V剖面濃度測量?jì)x適用于評估和控制在半導體生產(chǎn)中的外延過(guò)程并且以被使用在多種不同的材料上,例如:硅、鍺、III-V族化合物半導體(如GaN)。

 

CVP21的系統特點(diǎn):

  • 堅固可靠的模塊化系統結構,光學(xué)、電子和化學(xué)部分相對獨立;
  • 精確的測量電路模塊;
  • 強力的控制軟件,系統操作,使用簡(jiǎn)便;
  • 完善的售后服務(wù)體系;
  • 提供免費樣品測試并提供測試報告。
  • 保修期:2年,終身維修。
  • 對用戶(hù)承諾終身免費樣品測試,每月1次。

 

技術(shù)參數:
CVP21電化學(xué)CV剖面濃度分析儀完美結合了WEP在電化學(xué)方分布測試方面超過(guò)30年的經(jīng)驗和世界上最先進(jìn)的電路系統。全自動(dòng),特別適用于新材料,如氮化鎵、碳化硅材料等。
可有效檢測:外延材料、擴散、離子注入。
載流子濃度測量范圍:1011/cm3~1021/cm3 ;
深度分辨率:低至1nm;
模塊化系統結構:
 - 拓撲型結構;
 - 實(shí)時(shí)監控腐蝕過(guò)程;
 - 適于微小樣品及大尺寸的晶圓;
- 全自動(dòng)化系統;

 

主要特點(diǎn):
CVP21電化學(xué)ECV是半導體載流子濃度分布完美的解決方案:
1.  CVP21應用范圍寬,可以用于絕大多數的半導體材料。
- IV族半導體如:硅(Si)、鍺(Ge)、碳化硅(SiC)等…
- III-V族化合物半導體如:砷化鎵(GaAs)、磷化銦(InP)、磷化鎵(GaP)等…
- 三元III-V族化合物半導體如:鋁鎵砷(AlGaAs)、鎵銦磷(GaInP)、鋁銦砷(AlInAs)等…
- 四元III-V族化合物半導體如:鋁鎵銦磷(AlGaInP)等…
- 氮化物如:氮化鎵(GaN)、鋁鎵氮(AlGaN)、銦鎵氮(InGaN)、鋁銦氮(AlInN)等…
- II-VI族化合物半導體如:氧化鋅(ZnO)、碲化鎘(CdTe)、汞鎘碲(HgCdTe)等…
- 其他不常見(jiàn)半導體材料(可以聯(lián)系我們進(jìn)行樣品測量)。
2.  CVP21可測試不同形態(tài)的樣品:多層結構的薄膜材料、基底沒(méi)有限制(基底導電或絕緣均可)、標準樣品尺寸從4*2mm ~ 8英寸晶圓(更小尺寸樣品請預先咨詢(xún)我們)。
3.  CVP21擁有很好的分辨率范圍:
* 載流子濃度分辨率范圍從< 1012 cm-3 ~ > 1021 cm-3
* 深度分辨率范圍從1nm ~ 100um (依樣品類(lèi)型、樣品質(zhì)量決定)
4.  CVP21是一套完整的電化學(xué)ECV測量系統:
* 系統可靠性高(儀器的電子、機械、光學(xué)、液體傳動(dòng)幾個(gè)主要部分均經(jīng)特殊設計)
* 免校準的系統(完全自校準的電子系統,電纜電容均無(wú)須用戶(hù)再次校準)
* 易于使用(全用戶(hù)管理軟件優(yōu)化,在實(shí)驗室環(huán)境或生產(chǎn)環(huán)境均易于使用)
* 照相機鏡頭控制(過(guò)程在線(xiàn)由彩色照相機鏡頭控制;每次測量后,鏡頭數據均可取出。)
* 實(shí)驗菜單(測量菜單預定義,優(yōu)先權用戶(hù)可以很容易修改或改進(jìn)測量菜單)
* Dry-In/Dry-Out: Auto-Load/Unload/Reload (電化學(xué)樣品池自動(dòng)裝載/卸載/再裝載,優(yōu)先權用戶(hù)易于修改,進(jìn)行樣品dry-in/dry-out處理。)

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